ASML verkiest Amsterdam boven Eindhoven voor een nieuw op te richten Instituut voor Nanolithografie (INL). “De Amsterdamse universiteiten en het FOM-instituut AMOLF kwamen met het beste voorstel en kunnen een goed team van toponderzoekers aan zich binden”, licht ASML-woordvoerder Lucas van Grinsven de keuze toe.
Het Veldhovense bedrijf is van plan om komende tien jaar 30 miljoen euro te investeren in het Amsterdamse instituut. Dat de VU, UvA, FOM en de gemeente Amsterdam in diezelfde periode maar liefst 42,5 miljoen bijpassen, is niet wat de doorslag gaf in de keuze, volgens Van Grinsven. ASML zocht een team van wetenschappers die willen nadenken over de vraag hoe je licht met een golflengte van tussen de 13 en 6 nanometer – nodig om steeds kleinere details aan te brengen op microchips – intens genoeg kunt maken om zijn machines productief te houden. “Dat is heel lastig. Daar heb je echt out-of-the-box-denken en academische vrijheid voor nodig en dan is een beetje afstand tot de sponsor juist wel goed. Dat was ook een voordeel van Amsterdam. Verder vinden we het interessant om in Amsterdam een nieuwe bron van talent aan te boren, ook van studenten.”
“We hebben in heel Nederland naar de juiste experts gezocht en mensen gevonden die serieuze interesse hebben om binnen INL een nieuwe onderzoeksgroep op te starten op een van de door ons gekozen thema’s”, vertelt AMOLF-directeur Albert Polman, die het Amsterdamse voorstel coördineerde. “Denk daarbij aan infraroodlaserfysica, fysica van uv-licht en onderzoek naar het gedrag van nanolicht. Verder heeft AMOLF veel ervaring met het opzetten van nieuwe onderzoeksvelden, omdat dat onderdeel is van onze speciale missie.”